ASML en imec openen ‘speeltuin’ voor high NA EUV-machines

asml

ASML verwelkomt chipfabrikanten in een gloednieuw testlabo aan zijn site in Veldhoven. Ze kunnen er de meest geavanceerde EUV-machines ontdekken.

Met een persbericht knippen ASML en imec het figuurlijke rode lint van het High NA EUV Lithography Lab door. ASML en imec zullen de testfaciliteit samen uitbaten op de productiesite van ASML in het Nederlandse Veldhoven. Zowel chipmakers als leveranciers van materialen zijn er welkom om de meest geavanceerde machines uit de stal van ASML te ontdekken.

High NA

Het paradepaardje is de Twinscan EXE:5000, een High NA EUV-scanner. De omschrijving High-NA (Numerical Aperture) verwijst naar de hogere numerieke apparatuur van de lens in de scanner, die 0,55 bedraagt waar de meeste machines een apertuur van 0,33 hebben. Dit moet het mogelijk maken in de toekomst nog kleinere chips met een hogere dichtheid te ontwikkelen dan wat met hedendaagse technologie mogelijk is.

Luc Vandenhove, CEO van imec, benadrukt het belang van dit type machine voor de globale chipindustrie. “High NA EUV is de volgende mijlpaal in optische lithografie. Dit zal de opbrengst verbeteren en de cyclustijd en zelfs de CO2-uitstoot verminderen in vergelijking met bestaande EUV-systemen. Het zal daarom een belangrijke factor zijn om de Wet van Moore door te drukken tot ver in het tijdperk van de ångström. We zijn nu enthousiast om deze mogelijkheden in het echt te verkennen.”

lees ook

Intel blijft geloven in wet van Moore, maar geeft toe dat ze vertraagt

Duur speelgoed

ASML leverde op de valreep nog in 2023 een eerste exemplaar van de machine: Intel was de gelukkige. Vanaf 2025 of 2026 plant ASML de machine in grotere volumes te produceren. Spelers uit de industrie kunnen in het testlabo experimenteren en met de machine en als het kan ook al hun bestelling plaatsen. De prijs per stuk wordt op ongeveer 350 miljoen euro geschat.

ASML high-NA euv scanner
ASML leverde de eerste High NA EUV-machine eind 2023 aan Intel. Bron: ASML

“Het Lithography Lab biedt onze klanten, partners en leveranciers de mogelijkheid om toegang te krijgen tot het High NA EUV-systeem voor procesontwikkeling, terwijl ze wachten tot hun eigen systeem beschikbaar is in hun fabrieken. Dit kan de leercurve van de technologie aanzienlijk versnellen en de introductie in de productie soepeler laten verlopen”, zegt ASML CEO Christophe Fouquet, die in april de fakkel overnam van Peter Wennink.

nieuwsbrief

Abonneer je gratis op ITdaily !

  • This field is for validation purposes and should be left unchanged.
terug naar home