ASML werkt al aan een opvolger voor de High-NA EUV-machines die het vandaag op de markt heeft. Die moeten de dichtheid en opbrengst van chipproductielijnen nog doen stijgen.
Het Nederlandse ASML wil zijn High-NA EUV-machines al opvolgen met een Hyper-NA EUV-toestel, hoewel de vorige generatie enkel nog maar door Intel is gekocht. De High-NA EUV-toestellen volgend de eerste Low-NA EUV machines van de fabrikant op, die vandaag het gros van de EUV-productielijnen aandrijven.
ASML werkt aan nieuwe generaties van EUV (extreme ultraviolet)-machines zodat chipfabrikanten de toestellen kunnen gebruiken in almaar meer geavanceerde productielijnen, die op hun beurt efficiënter moderne chips kunnen opleveren. De toestellen van de fabrikant zijn rechtstreeks verantwoordelijk voor innovaties op vlak van nanometers bij processors.
Lensopening
ASLM innoveert bij de machines vooral op het vlak van de lensopening. Door die te vergroten, kunnen de machines componenten van een chip projecteren met een hogere dichtheid. Een grotere opening brengt echter uitdagingen met zich mee, zoals een verminderd contrast, waarvoor ASLM dan weer andere oplossingen moet zoeken.
Dat klinkt eenvoudig in de basis, maar de golflengte van het (onzichtbare) licht gebruikt in EUV-machines is al zo klein, dat de straling door vrijwel alles geabsorbeerd wordt inclusief de spiegels in de toestellen zelf. ASML moet voor iedere nieuwe generatie van zijn lithografie-toestellen worstelen met de wetten van de fysica om meer prestaties uit de machines te krijgen.
De Hyper-NA EUV-machines zijn weer een sprong voorwaarts en zullen in principe vanaf 2030 beschikbaar zijn. In afwachting is de adoptie van de High-NA EUV-machines nog beperkt, en heeft Intel het gros van de toekomstige stock opgekocht.